特許
J-GLOBAL ID：200903025985074320
フォトニック結晶及びその製造方法並びにフォトニック結晶の製造用の構造体及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-129881
公開番号（公開出願番号）：特開2006-126776
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】広くてシャープなバンドギャップを有する3次元構造のフォトニック結晶及びその製造方法並びにこのフォトニック結晶の製造用の構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】図1に示す正四角錐状の凹部1aを有した容器1の凹部1a内に単分散粒子を入れ、振動を与えて3次元に配列させた後、焼結して隣接する単分散粒子同士をネックによって連結させることにより、構造体を製造する。構造体の間隙に誘電性樹脂を含浸し、硬化させて複合体とする。複合体を構造体のみを溶解する溶液中に浸漬する。複合体の表面に露呈している単分散粒子が溶解し、次いでネックを介して隣接する単分散粒子が順次溶解していき、構造体が完全に溶解する。これにより、誘電性樹脂よりなるフォトニック結晶が製造される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
誘電体内に球状空孔が3次元に配列されてなるフォトニック結晶の製造に用いられる構造体であって、
単分散粒子が3次元に配列され、該単分散粒子は隣接する単分散粒子の少なくとも1個とネックを介して連結されていることを特徴とするフォトニック結晶の製造用の構造体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
引用文献：
前のページに戻る
