走査露光方法および該方法を用いた回路素子製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-106557
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306610
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【目的】走査露光方法において、アライメント精度を向上させる。【構成】マスクステージRSTとウエハステージWSTを同期して移動しながら、マスクRのパターンをウエハW上に露光する。マスクRとウエハWとをグローバルアライメントする時、前回(1stレイヤ)の走査露光時の走査方向と今回(2ndレイヤ)の走査露光時の走査方向とを一致させる。予めショット配列座標を計算してアライメントする時は、走査方向別にショット配列座標を計算する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを投影光学系の物体側の投影視野に対して第1の速度で移動させるとともに、前記マスクのパターンが露光される感光感基板上の複数の被露光領域の各々を前記投影光学系の像側の投影視野に対して第2の速度で順次移動させることを繰り返すことによって、前記感光基板上の各被露光領域を前記マスクのパターンで走査露光する方法において、前記感光基板上の着目する被露光領域を先行する第1のマスクパターンで走査露光するときの走査の方向を記憶する段階と;前記感光基板上の着目被露光領域を後続の第2のマスクパターンで重ね合わせ露光する際、前記着目被露光領域と前記第2のマスクパターンとを前記記憶された方向に走査する段階とを含むことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 514 C

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