特許

J-GLOBAL ID：200903026005039414

薄膜磁気ヘッド

発明者： 川口 裕人
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375346
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189004
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 薄膜プロセスにより基板上に磁気回路が形成されてなるインダクティブ型の薄膜磁気ヘッドにおいて、直流抵抗の大幅な増加等を招くことなく薄膜コイルの巻き数を増加させ、特性の向上を図る。【解決手段】 基板2に対して垂直な方向に磁束を通す少なくとも4つの磁性柱5,6,7,8を設け、これら少なくとも4つの磁性柱5,6,7,8にそれぞれ薄膜コイル11,12,13,14を巻装することで、略同一の平面内に少なくとも4つの薄膜コイル11,12,13,14を有する構成とする。これにより、各薄膜コイル11,12,13,14の外径を大きくしたり、各薄膜コイル11,12,13,14のパターン幅を小さくしたりすることなく、薄膜コイル全体としての巻き数を増加させることができる。

請求項（抜粋）：

薄膜プロセスにより基板上に磁気回路が形成されてなるインダクティブ型の薄膜磁気ヘッドであって、上記磁気回路は、上記基板に対して平行な方向に磁束を通す下層磁性薄膜及び上層磁性薄膜と、上記下層磁性薄膜と上層磁性薄膜との間に形成され、上記基板に対して垂直な方向に磁束を通す少なくとも4つの磁性柱と、上記磁性柱の周囲に各々巻装された少なくとも4つの薄膜コイルとを備え、上記少なくとも4つの薄膜コイルが、相互に信号が加算されるように接続されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

FI (2件)：

G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 F

Fターム (4件)：

5D033AA02 ,  5D033BA07 ,  5D033BA32 ,  5D033BA36