特許
J-GLOBAL ID:200903026006970600

酸化物超電導導体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-100421
公開番号(公開出願番号):特開平7-037444
出願日: 1994年05月16日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 高い臨界電流値を有し、安定した電流輸送を行なうことができる、酸化物超電導導体およびその製造方法を提供する。【構成】 フレキシブルなテープ基板1とテープ基板1上に形成された中間層2と、中間層2上に形成された酸化物超電導膜3と、酸化物超電導膜3上に形成された、厚さが0.5μm以上の金または銀からなる膜4とを備える。
請求項(抜粋):
フレキシブルなテープ基板と、前記テープ基板上に形成された中間層と、前記中間層上に形成された酸化物超電導膜と、前記酸化物超電導膜上に形成された、熱膨張係数が1×10-5/K〜5×10-5/Kの値を有し、かつ耐酸化性の金属からなる、厚さが0.5μm以上の保護層とを備える、酸化物超電導導体。
IPC (5件):
H01B 12/06 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C01G 3/00 ZAA ,  C30B 29/22 501 ,  H01B 13/00 565
引用特許:
審査官引用 (5件)
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