特許

J-GLOBAL ID：200903026007871931

面状光学素子の製造方法

発明者： 内田 哲夫 ,  鈴木 基之 ,  松浦 和夫
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-072240
公開番号（公開出願番号）：特開平7-281182
出願日： 1994年04月11日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【構成】透明基板上に、求める面状光学素子形状に対応した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設け、次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感光性樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬化エネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB層に形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特徴とする面状光学素子の製造方法において、少なくともA層における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分は可視光透過率も20%以下であることを特徴とする面状光学素子の製造方法。【効果】耐薬品性が優れ、ドーム断面状や三角プリズム断面状等の微小な面状光学素子の製造が可能となるという特長をもつ。このようにして製造された面状光学素子は、液晶ディスプレイ、透過型スクリーンなどに好ましく使用できる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、求める面状光学素子形状に対応した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設け、次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感光性樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬化エネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB層に形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特徴とする面状光学素子の製造方法において、少なくともA層における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分は可視光透過率も20%以下であることを特徴とする面状光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/1335 530 ,  F21V 5/04 ,  G02B 3/00