特許
J-GLOBAL ID:200903026010625208

プラズマ処理容器内部材およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 順三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-140698
公開番号(公開出願番号):特開2003-321760
出願日: 1999年12月10日
公開日(公表日): 2003年11月14日
要約:
【要約】【課題】 耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】 基材の表面が、Y2O3溶射皮膜単層もしくは金属皮膜、Al2O3やY2O3などの皮膜を介在させてから、その上にトップコートとして形成されるY2O3溶射皮膜を設けてなる多層状複合層によって被覆されている部材とその製造方法。
請求項(抜粋):
基材の表面がY2O3減圧プラズマ溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。
IPC (5件):
C23C 4/10 ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/12 ,  C23C 28/00 ,  H01L 21/3065
FI (5件):
C23C 4/10 ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/12 ,  C23C 28/00 B ,  H01L 21/302 101 G
Fターム (42件):
4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031AB07 ,  4K031AB08 ,  4K031AB09 ,  4K031CB21 ,  4K031CB26 ,  4K031CB34 ,  4K031CB36 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA01 ,  4K031DA04 ,  4K031EA10 ,  4K031FA01 ,  4K044AA02 ,  4K044AA03 ,  4K044AA06 ,  4K044AA11 ,  4K044AA13 ,  4K044AB10 ,  4K044BA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BB03 ,  4K044BB04 ,  4K044BC02 ,  4K044BC05 ,  4K044BC11 ,  4K044CA11 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14 ,  4K044CA62 ,  5F004AA15 ,  5F004BB29 ,  5F004DA00 ,  5F004DA11 ,  5F004DA17
引用特許:
審査官引用 (22件)
  • 耐食性部材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-201566   出願人:京セラ株式会社
  • 工程の安定性を得るために温度制御を行うホット・ウォール反応性イオン・エッチング
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-048395   出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 特開昭61-207566
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引用文献:
審査官引用 (3件)
  • 溶射技術ハンドブック, 19980530, 初版, p.150
  • 溶射技術ハンドブック, 19980530, 初版, p.150
  • 溶射技術ハンドブック, 19980530, 初版, p.150

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