特許

J-GLOBAL ID：200903026019642598

炭酸ガス溶存純水供給方法及び炭酸ガス溶存純水供給ユニット並びにそれを備えた基板処理装置

発明者： 吉田 征弘 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-249783
公開番号（公開出願番号）：特開2000-070887
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 比抵抗計の測定に起因する金属イオンを排除した炭酸ガス溶存純水を供給する炭酸ガス溶存純水供給ユニットを提供する。【解決手段】 純水供給源から供給された純水は、炭酸ガス溶解部4の浸透部40を通過することで、炭酸ガスが溶解された炭酸ガス溶存純水になる。その炭酸ガス溶存純水は、供給管3を通じて基板処理ユニット2に供給される。この基板処理ユニット2に供給される炭酸ガス溶存純水の一部を分岐管5によって取り出す。取り出された炭酸ガス溶存純水は、分岐管5内を流れて廃液される途中で、比測定計8の測定部である電極6によって比抵抗値が測定される。測定された比抵抗値に応じて、制御部7は炭酸ガス溶存純水の比抵抗値を管理する。したがって、基板処理ユニット2に供給される炭酸ガス溶存純水は、電極6から溶出する金属イオンを含まない一方で、所定の比抵抗値を管理されたものである。

請求項（抜粋）：

純水内に炭酸ガスを溶解させた炭酸ガス溶存純水を生成するとともに、比抵抗計によって比抵抗値が測定された前記炭酸ガス溶存純水を基板処理装置に供給する炭酸ガス溶存純水供給方法であって、前記純水内に炭酸ガスを溶解させて炭酸ガス溶存純水を生成する過程と、前記炭酸ガス溶存純水を前記基板処理装置に供給する過程と、前記基板処理装置に供給される炭酸ガス溶存純水の一部を取り出す過程と、前記取り出された炭酸ガス溶存純水の比抵抗値を前記比抵抗計によって測定する過程とを備えたことを特徴とする炭酸ガス溶存純水供給方法。

IPC (3件)：

B08B 3/10 ,  H01L 21/304 646 ,  H01L 21/304 648

FI (3件)：

B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 646 ,  H01L 21/304 648 G

Fターム (4件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01