特許

J-GLOBAL ID：200903026025460280

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-155897
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351079
出願日： 2001年05月24日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができ、露光マージンに優れ、現像欠陥の発生数が軽減ざれたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(V-1)〜(V-4)のいずれかで表される基を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記式(I)に示す酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(V-1)〜(V-4)において、R1b〜R5bは、各々独立に水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1b〜R5bの内の2つは、結合して環を形成してもよい。【化2】式(I)中、R1〜R5は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基又はアリール基を表し、R1〜R5のうち少なくとも2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。R6及びR7は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はアリール基を表す。Y1及びY2は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表し、Y1とY2とが結合して環を形成してもよい。Y3は、単結合または2価の連結基を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。但し、R1〜R5の少なくとも1つとY1又はY2の少なくとも一つが結合して環を形成するか、若しくは、R1〜R5の少なくとも1つとR6又はR7の少なくとも1つが結合して環を形成する。尚、R1〜R7のいずれか、若しくは、Y1又はY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式(I)の構造を2つ以上有していてもよい。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (30件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38