特許

J-GLOBAL ID：200903026052262636

光学素子の製造方法

発明者： 高野 潤 ,  根岸 光正 ,  北沢 和雄 ,  井口 裕章
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-158556
公開番号（公開出願番号）：特開平10-007423
出願日： 1996年06月19日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】成形後の上面が凹面の光学素子であっても、上型からの離型を容易に行うことのできる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】光学素子材料を変形可能な温度まで加熱し軟化させ、一対の型2、3を光学素子材料に押しつけて加圧することにより、光学素子10を成形し、一対の型2、3の光学素子10への加圧を停止し、凸面の型2に貼り付いた光学素子10を冷却し、冷却された光学素子10の周辺部を再加熱することにより、光学素子を熱変形させて凸面の型2から離型させ、その後、光学素子10を再冷却する。

請求項（抜粋）：

光学素子材料を変形可能な温度まで加熱し軟化させ、一対の型を前記光学素子材料に押しつけて加圧することにより、前記一対の型の面形状を前記光学素子材料に転写して光学素子を成形した後、前記一対の型を前記光学素子から離型させる光学素子の製造方法において、前記一対の型のうちの一方の型面形状が凸面である場合、前記凸面の型を前記光学素子から離型させるために、前記光学素子の成形後、前記凸面の型に貼り付いている前記光学素子を冷却し、冷却された前記光学素子の周辺部を再加熱することにより、前記光学素子を熱変形させて前記凸面の型から離型させることを特徴とする光学素子の製造方法。