特許
J-GLOBAL ID:200903026054865443

酸化物触媒を利用した窒化ホウ素ナノチューブの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-287681
公開番号(公開出願番号):特開2002-097004
出願日: 2000年09月21日
公開日(公表日): 2002年04月02日
要約:
【要約】【課題】 導体材料、耐熱性材料、高強度材料、触媒などに有用な窒化ホウ素ナノチューブと、中間性生物の発生が抑制され、さらに収率が高められた窒化ホウ素ナノチューブの製造方法を提供する。【解決手段】 酸化物触媒の存在下で、カーボンナノチューブにホウ素酸化物および窒素を1200〜1800°Cの温度範囲で反応させて窒化ホウ素ナノチューブを生成させる。
請求項(抜粋):
酸化物触媒の存在下で、カーボンナノチューブにホウ素酸化物および窒素を1200〜1800°Cの温度範囲で反応させて窒化ホウ素ナノチューブを生成させることを特徴とする窒化ホウ素ナノチューブの製造方法。
IPC (2件):
C01B 21/064 ,  B01J 23/28
FI (2件):
C01B 21/064 G ,  B01J 23/28 M
Fターム (9件):
4G069AA02 ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC21B ,  4G069BC54A ,  4G069BC54B ,  4G069BC59A ,  4G069BC59B ,  4G069CB81
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)

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