荷電粒子ビーム照射システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-330297
公開番号（公開出願番号）：特開2009-148473
出願日： 2007年12月21日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：

【課題】シンクロトロンから出射されるイオンビームの強度を、ビーム輸送系の各機器及び照射装置を動作させることなく調整することができる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム発生装置1からイオンビームが出射される第1ビーム輸送系4の途中に高速ステアラ装置(ビームダンパー装置)100を設置し、そのビームダンパー装置100に、ビームダンパーに当てるイオンビームの線量を計測する線量モニタ装置を設け、照射装置15A〜15Dに輸送せずにイオンビームの強度を計測できるようにする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを加速して出射する荷電粒子ビーム発生装置と、前記荷電粒子ビーム発生装置に接続され、前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを輸送する第1ビーム輸送系と、前記荷電粒子ビームを照射する少なくとも1つの照射装置とを備えた荷電粒子ビーム照射システムにおいて、前記第1ビーム輸送系の途中に設けられたステアリング電磁石と、このステアリング電磁石から分岐したビーム経路に設けられたビームダンパーとを有し、前記ステアリング電磁石の励磁制御により、前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームのうち前記照射装置に輸送されない荷電粒子ビームを前記ビームダンパーに当てるビームダンパー装置と、前記ビームダンパー装置に設けられ、前記ビームダンパーに当てる荷電粒子ビームの線量を計測する線量モニタ装置とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム照射システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 H

Fターム (7件)：

4C082AA01 , 4C082AC05 , 4C082AE01 , 4C082AG02 , 4C082AG12 , 4C082AG42 , 4C082AP03

引用特許：

出願人引用 (3件)

米国特許5,363,008号
特許第259629号公報
米国特許5,260,581号明細書

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