特許

J-GLOBAL ID：200903026065579841

基板処理装置

発明者： 岡本 伊雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-335406
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163499
出願日： 1992年11月19日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】 基板を強制的に平坦に保持する必要がなく、かつ基板に反りがあっても基板の被処理面全面をノズルからの吐出液により均一に処理することができる基板処理装置を提供する。【構成】 基板載置台18に設けられた基板支持ピン22の先端部によって基板2が支持される。距離測定ユニット29によってノズル6と基板2との距離Dが測定され、その測定された距離Dに基づいてノズル6が上下方向に移動されて、基板2とノズル6との距離が調整される。【効果】 基板は基板支持ピンの先端部によって支持されるために、基板に反りが生じるが、上記のようにして基板とノズルとの距離が調整されるので、基板とノズルとの間の距離を一定に保つことができ、基板の被処理面全面をノズルからの吐出液により均一に処理することができる。

請求項（抜粋）：

吐出液をノズルから基板に向けて吐出させて、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置において、ベース部と、前記ベース部の上方主面から植設された複数の基板支持部材とを備え、前記複数の基板支持部材の先端部で基板を支持する基板載置台と、前記基板載置台の上方位置に配置され、前記基板載置台に載置された前記基板に対して所定の吐出液を吐出するノズルと、前記ノズルと前記基板との距離を測定する距離測定手段と、前記距離測定手段によって測定された距離に基づいて、前記基板載置台と前記ノズルとのうち少なくとも一方を上下方向に移動させて、前記基板支持部材上に載置された前記基板と前記ノズルとの距離を調整する距離調整手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B05B 12/00 ,  B05B 13/02 ,  B08B 11/04 ,  G03F 7/30 501 ,  G05D 3/12 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306