特許
J-GLOBAL ID：200903026071721730

合成ガスの製造方法

発明者：
飯嶋 正樹

飯嶋 正樹 について

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小林 一登

小林 一登 について

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守田 和裕

守田 和裕 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246913
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060203
出願日： 2000年08月16日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：
【要約】【課題】 硫化水素および二酸化炭素を含む天然ガスを原料として用いて改質器で合成する際、前記硫化水素のみを選択的に除去して天然ガス中の二酸化炭素を有効に利用して、改質器手前で前記天然ガスに添加する二酸化炭素の量を削減することが可能な合成ガスの製造方法を提供する。【解決手段】 硫化水素および二酸化炭素を含む天然ガスに二酸化炭素および水蒸気をそれぞれ添加し、この天然ガスを含むガスを改質器の反応管に供給して主に水蒸気改質反応させて水素および一酸化炭素を含む合成ガスを製造するにあたり、前記天然ガスに二酸化炭素および水蒸気を添加する前に硫化水素吸着材が充填された硫化水素除去装置を流通させて硫化水素のみを選択的に除去することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
硫化水素および二酸化炭素を含む天然ガスに二酸化炭素および水蒸気をそれぞれ添加し、この天然ガスを含むガスを改質器の反応管に供給して主に水蒸気改質反応させて水素および一酸化炭素を含む合成ガスを製造するにあたり、前記天然ガスに二酸化炭素および水蒸気を添加する前に硫化水素吸着材が充填された硫化水素除去装置を流通させて硫化水素のみを選択的に除去することを特徴とする合成ガスの製造方法。
IPC (4件)：
C01B 3/38 ,  B01D 53/14 ,  B01J 20/34 ,  B01J 20/06
FI (4件)：
C01B 3/38 ,  B01D 53/14 A ,  B01J 20/34 F ,  B01J 20/06 A
Fターム (23件)：
4D020AA04 ,  4D020BA04 ,  4D020BA06 ,  4D020BA08 ,  4D020BB01 ,  4D020BC01 ,  4D020BC05 ,  4D020BC10 ,  4D020CA05 ,  4D020CC01 ,  4G040EA03 ,  4G040EA05 ,  4G040EA06 ,  4G040EB01 ,  4G066AA06D ,  4G066AA09D ,  4G066AA18B ,  4G066AA27B ,  4G066BA42 ,  4G066CA24 ,  4G066DA04 ,  4G066GA01 ,  4G066GA06
引用特許：
審査官引用 (14件)
  • 特表平6-505692
  • 特表平6-505692
  • 特開平1-307428
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