特許
J-GLOBAL ID：200903026073036202
高純度シリコン粉末の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-169531
公開番号（公開出願番号）：特開平6-016411
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 高純度で微細なシリコン粉末を製造する。【構成】 塊状Siに圧力を加えて微小クラックを生成させた後に粉砕する。【効果】 微細かつ高純度なシリコン粉末を得ることができ、酸洗、水洗、真空乾燥を施す必要がなく、製造工程が簡略化され、製造コストを低減することができるばかりでなく、Si粉体の凝集を防止することができる。
請求項（抜粋）：
塊状Siに圧力を加えて微小クラックを生成させた後に粉砕することを特徴とする高純度シリコン粉末の製造方法。
IPC (2件)：
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