特許
J-GLOBAL ID:200903026074356952

クロム含有化合物を使用する単一部位及び単一部位様触媒による重合におけるシ-チングの削減

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-062940
公開番号(公開出願番号):特開平11-315103
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 1999年11月16日
要約:
【要約】【課題】 単一部位及び単一部位様触媒による重合中におけるシーチングを削減させる方法を提供する。【解決手段】 クロム含有化合物を使用して反応器を被覆することによってシーチングの生成を減少させることができる。
請求項(抜粋):
オレフィン及びジオレフィンの重合中にシーチングを生じさせる傾向のある単一部位又は単一部位様重合触媒を利用して流動床反応器でオレフィン及びジオレフィンを重合させるための方法において、クロム含有化合物であって+2又は3の原子価状態で存在するものを該反応器の表面と接触するような態様で該反応器に導入することによって、シートの生成の可能性ある部位での該反応器内の静電荷をシートの生成を生じるであろう静電圧レベルよりも下に保持することを含むことを特徴とする流動床反応器でのオレフィン及びジオレフィンの改良重合方法。
IPC (5件):
C08F 2/00 ,  C08F 2/34 ,  C08F 2/44 ,  C08F 4/76 ,  C08F 10/00
FI (5件):
C08F 2/00 G ,  C08F 2/34 ,  C08F 2/44 A ,  C08F 4/76 ,  C08F 10/00

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