特許

J-GLOBAL ID：200903026087141173

ガス分離方法および回転式ガス分離装置

発明者： 佐木 邦夫 ,  高橋 定 ,  泉 順 ,  大嶋 一晃
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 坂間 暁 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-138732
公開番号（公開出願番号）：特開平5-329320
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【目的】 吸着剤に加圧原料ガスを接触させ該原料ガス中の特定成分ガスを吸着させたのち、該特定成分ガス吸着後の吸着剤を減圧して吸着済みの特定成分ガスを離脱させ、再び吸着を行わせる圧力スウィング型ガス分離において、加圧、減圧が繰り返えされる吸着剤に攪乱を与えず、吸着性能の高い分離作用を行わせることを目的とする。【構成】 複数個の区画室12に区画され吸着剤13を充填された回転式吸着器7は、圧縮機14による加圧原料ガスが供給される吸着工程と、真空ポンプによる減圧を受ける吸着ガス離脱工程とを順に受けるように回転軸5まわりに間欠的に回転される。本分離装置では、吸着剤が、減圧される離脱工程の後に製品ガスによる昇圧工程を経て加圧原料ガスと接触される吸着工程へ切り換わるよう下部固定シール板2には製品ガス供給ポートが設けられている。

請求項（抜粋）：

圧縮された原料ガスを吸着剤と接触させ、前記原料ガス中から特定成分ガスを前記吸着剤に吸着させて残った精製ガスを得る工程と、前記特定成分ガスを吸着後の吸着剤を減圧して前記吸着された特定成分ガスを前記吸着剤から離脱する工程とを順次繰り返えすガス分離方法において、前記離脱工程の後の減圧された吸着剤に前記精製ガスを供給して昇圧する工程を介在させたことを特徴とするガス分離方法。

IPC (2件)：

B01D 53/04 ,  B01D 53/06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-142822
  
• 特開昭63-028422
  
• 特開昭63-134026