特許
J-GLOBAL ID：200903026099256197
積層薄膜コンデンサ
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-270812
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109578
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 電子機器等に使用される積層薄膜コンデンサにおいて、良好なはんだ付け性を確保できないという課題を解決し、はんだ付け性の良好な積層薄膜コンデンサを提供する。【構成】 絶縁基板1の片面または両面に内部電極2と薄膜誘電体層3を交互に積層したコンデンサ素子部4と、そのコンデンサ素子部4の両端面にプラズマ溶射法により形成された溶射金属層6と、その溶射金属層6の上に0.5μm以上の厚みで形成されたニッケルの中間めっき層7と、この中間めっき層7の上に2μm以上の厚みで形成された半田めっき層8とからなる。【効果】 信頼性に優れた良好なはんだ付け性を得ることができる
請求項（抜粋）：
絶縁基板の片面または両面に内部電極と薄膜誘電体層を交互に積層したコンデンサ素子部と、そのコンデンサ素子部の両端面に減圧プラズマ溶射法により形成された溶射金属層と、その溶射金属層の上に0.5μm以上の厚みで形成されたニッケルの中間めっき層と、この中間めっき層の上に2μm以上の厚みで形成されたはんだめっき層とからなる積層薄膜コンデンサ。
IPC (3件)：
H01G 4/06 102
, H01G 1/147
, H01G 4/30 301
