特許

J-GLOBAL ID：200903026103314431

光学薄膜の製造方法

発明者： 笹川 孝市 ,  鬼塚 兼美 ,  大山口 まき子
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-231681
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090559
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【目的】 耐環境性の良好な光学薄膜を効率良く製造(成膜)する。【構成】 酸化ハフニウムからなる第1の層と酸化ハフニウムより低屈折率の物質からなる第2の層とが交互に積層された光学薄膜を製造する方法において、前記第1および第2の各層を以下の過程で形成する。(イ)所定の圧力に設定された第1の真空空間中でアーク放電によりプラズマを生成する。(ロ)形成する膜に対応した蒸発物を、前記第1の真空空間よりも低い圧力に設定される第2の真空空間に設置する。(ハ)前記第2の真空空間に設置された蒸発物に前記プラズマを照射し、該第2の真空空間中で前記第1の層または第2の層を形成する。

請求項（抜粋）：

酸化ハフニウムからなる第1の層と酸化ハフニウムより低い屈折率を有する物質からなる第2の層とが交互に積層された多層構造の光学薄膜を製造する方法において、前記第1および第2の各層の形成過程が、(イ)所定の圧力に設定された第1の真空空間中でアーク放電によりプラズマを生成すること、(ロ)形成する膜に対応した蒸発物を、前記第1の真空空間よりも低い圧力に設定される第2の真空空間に設置すること、および(ハ)前記第2の真空空間に設置された蒸発物に前記プラズマを照射し、該第2の真空空間中で前記第1の層または第2の層を形成すること、からなることを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/08