特許

J-GLOBAL ID：200903026107764474

流動層ガス化システム

発明者： 池田 英人 ,  須田 俊之 ,  浅井 稔
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-201826
公開番号（公開出願番号）：特開2005-041959
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】不活性ガスを含まない高カロリーのガス化ガスを得ることができる流動層ガス化システムを提供する。【解決手段】ガス化によって生成したチャーCと流動媒体とを風箱12からの空気で高速で流動化させつつチャーCを燃焼させて流動媒体Sを加熱する循環流動層燃焼炉10と、循環流動層燃焼炉10からの流動媒体Sを分離する分離器20と、分離器20で分離された流動媒体を導入し、これを水蒸気で流動化しつつ供給された原料をガス化すると共に流動媒体と未反応のチャーの一部を上記循環流動層燃焼炉10に循環するバブリング流動層ガス化炉24とを備えたものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ガス化によって生成されたチャーと流動媒体とを風箱からの空気によって高速で流動化させつつチャーを燃焼させて流動媒体を加熱する循環流動層燃焼炉と、循環流動層燃焼炉からの流動媒体を分離する分離器と、分離器で分離された流動媒体を導入し、これを水蒸気で流動化しつつ供給された原料をガス化すると共に流動媒体と原料のガス化によって生成されたチャーの一部を上記循環流動層燃焼炉に循環するバブリング流動層ガス化炉とを備えたことを特徴とする流動層ガス化システム。

IPC (2件)：

C10J3/00 ,  F23C10/02

FI (2件)：

C10J3/00 K ,  F23C11/02 311

Fターム (8件)：

3K064AB03 ,  3K064AD05 ,  3K064AE06 ,  3K064AF01 ,  3K064BA07 ,  3K064BA14 ,  3K064BA17 ,  3K064BA21