特許
J-GLOBAL ID：200903026113475484
半導体基板の洗浄液
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-346563
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182944
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板を過酸化水素系洗浄液で洗浄する際の金属不純物の基板表面への付着を防止する。【構成】 水溶性有機スルホン酸またはその塩を含有させた酸性または塩基製の過酸化水素水溶液からなる半導体基板洗浄液。【効果】 洗浄液が金属不純物で汚染されても基板表面への金属不純物の付着がなく安定して洗浄を行うことができ半導体素子の特性を損なうことがない。
請求項（抜粋）：
水溶性の有機スルホン酸を含有させた酸性もしくは塩基性の過酸化水素半導体基板洗浄液。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, C23G 1/02
