歯磨き組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-533336
公開番号（公開出願番号）：特表平11-504919
出願日： 1996年04月19日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】新規な研磨剤を含有する、オーラルジェル及び練り歯磨きのような口腔組成物。a.)下記i.)〜iv.)を有する粒子を含有する沈降シリカ:i.)5ミクロンから11ミクロン(s.d.<9)の平均粒度;ii.)真鍮スクリーンに対する研磨剤については0.8から2.5、及びポリエステルスクリーンに対する研磨剤については5から8のアインレーナー(Einlehner)硬度;iii.)95 ml/100 gmから135 ml/100 gmの油吸収;及びiv.)25から90の放射性象牙質研磨(radioactive dentin abrasion):およびb.)下記i.)〜iv.)を有する粒子を含有するゲル状シリカ:i.)5ミクロンから11ミクロン(s.d.<9)の平均粒度;ii.)真鍮スクリーンに対する研磨剤については3から15、及びポリエステルスクリーンに対する研磨剤については8から20のアインレーナー(Einlehner)硬度;iii.)60 ml/100 gmから130 ml/100 gmの油吸収;及びiv.)80から200の放射性象牙質研磨:その際、該粒子の全部の少なくとも70%は25ミクロン未満の直径を有し、周皮洗浄比(pellicle cleaning ratio)が90から135、好ましくは110から135であり、放射性象牙質研磨が60から100、好ましくは65から85であって、周皮洗浄比/放射性象牙質研磨比が1.20から1.60、好ましくは1.25〜1.50であり、且つ沈降シリカとゲル状シリカの割合がそれぞれ90:10から60:40、好ましくは80:20から60:40である;を含有する非晶性シリカ研磨剤組成物。

請求項（抜粋）：

a.)下記i.)〜iv.)を有する粒子を含有する沈降シリカ: i.)5ミクロンから11ミクロン(s.d.<9)の平均粒度; ii.)真鍮スクリーンに対する研磨剤については0.8から

IPC (4件)：

A61K 7/16 , A61K 7/18 , C01B 33/14 , C01B 33/193

FI (4件)：

A61K 7/16 , A61K 7/18 , C01B 33/14 , C01B 33/193

引用特許：

審査官引用 (8件)

沈降珪酸およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-012402 出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
特開昭54-086636
特開昭63-139014

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