特許

J-GLOBAL ID：200903026123013675

無水イサト酸類の製造法

発明者： 小松 聖史 ,  上田 博史 ,  西井 真二
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107469
公開番号（公開出願番号）：特開平9-291083
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 収率及び設備生産性を向上せしめた無水イサト酸類の製造方法を提供する。【解決手段】 アルキルピリジニウム塩の共存下、水溶媒中でホスゲンとアントラニル酸類(I)又はその塩を反応させることを特徴とする無水イサト酸類(II)の製造法。

請求項（抜粋）：

アルキルピリジニウム塩の共存下、水溶媒中でホスゲンと式(I)(式中、R1,R2 は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン原子が置換していることもある低級アルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアラルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシ基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシカルボニル基、アシロキシ基又はXNR4R5(Xは単なる結合、低級アルキレン基又はカルボニル基を表す。Xが単なる結合又は低級アルキレン基である場合は、R4,R5 はそれぞれ独立に低級アルキル基又はN,R4,R5 が一緒になって他のヘテロ原子を含んでいることもある5員複素環若しくは6員複素環を表す。Xがカルボニル基である場合はR4,R5 はそれぞれ独立に水素原子、低級アルキル基又はN,R4,R5 が一緒になって他のヘテロ原子を含んでいることもある5員複素環若しくは6員複素環を表す。他のヘテロ原子を含む場合は、該ヘテロ原子は置換基を有することもできる。)を表す。R3 は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン原子が置換していることもある低級アルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアラルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシ基又はハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシカルボニル基を表す。)で示されるアントラニル酸類又はその塩を反応させることを特徴とする式(II)(式中、R1,R2,R3 はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)で示される無水イサト酸類の製造法。

IPC (5件)：

C07D265/26 ,  B01J 31/02 102 ,  A61K 31/42 ABE ,  A61K 31/42 ADP ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07D265/26 ,  B01J 31/02 102 X ,  A61K 31/42 ABE ,  A61K 31/42 ADP ,  C07B 61/00 300