特許
J-GLOBAL ID：200903026136484367
感光性組成物のパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-026994
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222508
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 膨潤、副反応を起こすことなく、現像廃液を生じることもなく、またバッチ処理が可能な新規なパターン形成方法を提供する。【構成】 露光により実質的に分子量が増大若しくは架橋反応を生ずる感光性組成物を、(1)基板上に塗布し、(2)パターン露光を行い、(3)超臨界流体を用いて未露光部部分を除去するプロセスを含む感光性樹脂組成物のパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
露光により実質的に分子量が増大もしくは架橋反応を生ずる感光性組成物を(1)基板の上に塗布し(2)パターン露光を行い(3)超臨界流体を用いて未露光部分を除去するプロセスを含むことを特徴とする感光性組成物のパターン形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, G03F 7/36
H01L 21/30 569 Z
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, G03F 7/36
