特許
J-GLOBAL ID:200903026145263489

ポリシラン及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-273101
公開番号(公開出願番号):特開平5-086199
出願日: 1991年09月25日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】 Si-H結合、Si-O結合を含有しない高純度のポリシランを得る。【構成】 ジハロシランをアルカリ金属の存在下に重合してポリシランを合成した後、その反応混合物にモノハロシランを該混合物が酸性になる量で加えて、上記ポリシラン中の末端をトリオルガノシリル基として封鎖することにより、下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が5,000〜2,000,000であり、Si-H結合及びSi-O結合を含有しない両末端がトリオルガノシリル基で封鎖されたポリシランを得る。【化1】(但し、R1〜R5はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、nはポリシランの重量平均分子量を5,000〜2,000,000とする数である。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が5,000〜2,000,000であり、両末端がトリオルガノシリル基で封鎖されたポリシラン。【化1】(但し、R1〜R5はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、nはポリシランの重量平均分子量を5,000〜2,000,000とする数である。)
引用特許:
審査官引用 (2件)

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