特許

J-GLOBAL ID：200903026161993993

非金属感光性酸生成剤を含む化学的に増幅されたフォトレジスト

発明者： ブランズヴォルド、ウイリアム、ロス ,  ブライタ、グレゴリー ,  デイピュトロ、リチャード、アンソニイ ,  イトウ、ヒロシ ,  ノーズ、クリストファ、ジョン ,  ウオング、ラーニイ、ワイ-リン ,  ミウラ、ステイブ、セイイチ ,  モンテゴメリイ、メルヴィン、ワーレン ,  モーロー、ウエーン、マーチン ,  セイチデブ、ハーバンズ、スイグ ,  ウエルシ、ケヴィン、マイケル
出願人/特許権者： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-511390
公開番号（公開出願番号）：特表平8-501890
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】紫外線、電子線およびエックス線露光装置で使用するためのレジストは、その溶解度が酸で除去可能な保護基の存在に依存する、ポリマまたは分子の組成物および上記の輻射線に当たると強酸を発生するスルホン酸前駆体を含む。好ましいスルホン酸前駆体は、N-ヒドロキシイミド類のトリフレート酸エステルまたはベンゼンスルホン酸エステルである。

請求項（抜粋）：

(a)その溶解度が酸で除去可能な保護基の存在に依存する、ポリマまたは分子組成物と、(b)輻射線に露光すると強酸を発生する、金属イオンを含まないスルホン酸前駆体と を含む、紫外線、電子線、またはエックス線露光装置で使用するためのフォトレジスト。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特公平2-027660
  
• 特開平3-206458
  
• 特開昭60-260947
  
• 特開昭61-166544
  
• 特開平2-100054