光ラジカル発生剤を含有するネガ型カラーレジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-017672
公開番号（公開出願番号）：特開2007-199376
出願日： 2006年01月26日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】カラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高い分光スペクトルの再現性、高い耐熱性、耐光性を示し、且つ、10μm以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂(A)、光ラジカル発生剤(B)、架橋性化合物(C)、式(1):【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素原子又は有機基を示す。)で表される陽イオンを含有する染料(D)、および溶媒(E)を含有するネガ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

樹脂(A)、光ラジカル発生剤(B)、架橋性化合物(C)、式(1):

IPC (3件)：

G03F 7/004 , G02B 5/20 , G02B 5/22

FI (3件)：

G03F7/004 505 , G02B5/20 101 , G02B5/22

Fターム (24件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA11 , 2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025CA00 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CC13 , 2H025FA17 , 2H048BA02 , 2H048BA45 , 2H048BA47 , 2H048BA48 , 2H048BB02 , 2H048BB42 , 2H048CA04 , 2H048CA14 , 2H048CA19 , 2H048CA23

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-163552号公報(特許請求の範囲)
着色感光性樹脂組成物、着色画像形成材料、カラーフィルタの製造法及びカラーフィルタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-170431 出願人：日立化成工業株式会社
カラーフィルター用色素
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-205298 出願人：住友化学工業株式会社

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