特許

J-GLOBAL ID：200903026202655216

浸炭方法

発明者： 堀 惠造
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (1件)： 森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055725
公開番号（公開出願番号）：特開2002-256411
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 大きな浸炭硬化層深さを要求される場合でも浸炭処理に長時間を要することがなく、浸炭の効率が高く低コストで、且つ環境に対しても悪影響を及ぼすおそれが小さい浸炭方法を提供する。【解決手段】 希土類元素を含有する浸炭性ガス中で浸炭処理を行った。

請求項（抜粋）：

希土類元素の存在下において浸炭を行うことを特徴とする浸炭方法。

IPC (3件)：

C23C 8/22 ,  C21D 1/06 ,  C21D 1/74

FI (3件)：

C23C 8/22 ,  C21D 1/06 A ,  C21D 1/74 P

Fターム (5件)：

4K028AA01 ,  4K028AB01 ,  4K028AC03 ,  4K028AC08 ,  4K028BA03