特許

J-GLOBAL ID：200903026211323919

EUV露光装置

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289441
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100590
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 ウェハ上での露光転写位置精度が良好なEUV露光装置を提供する。【解決手段】 光源を含む照明系ILから放射されたEUV光は折り返しミラー1によってレチクル2に照射される。レチクル2によって反射されたEUV光は、レチクル2に描かれた回路パターンの情報を含んでいる。EUV光はミラー6によって反射され、順次ミラー7、ミラー8、ミラー9によって反射されて最終的にはウェハ10に対して垂直に入射する。主としてミラー6〜ミラー9からなる投影光学系の縮小倍率は、慣習的に1/4が用いられているが、ウェハ上での露光転写位置精度を向上させるためには、1/5より大きくすることが好ましい。

請求項（抜粋）：

EUV光を使用した露光装置であって、投影縮小倍率が1/5以上とされていることを特徴とするEUV露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/02

FI (5件)：

G03F 7/20 503 ,  G21K 1/06 G ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (11件)：

2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BB03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046GA04 ,  5F046GA14 ,  5F046GD10 ,  5F046GD20