特許
J-GLOBAL ID:200903026212830512

貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物の選択的接触還元方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-022740
公開番号(公開出願番号):特開2000-271447
出願日: 2000年01月31日
公開日(公表日): 2000年10月03日
要約:
【要約】【課題】 内燃機関からの貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物を触媒上でアンモニアにより選択的に接触還元する方法を提供する。【解決手段】 貧排気ガスに加えて富ガス流を製造し、富ガス流を還元に必要なアンモニアを形成するためにガス放電プラズマ中で処理する。
請求項(抜粋):
1つ以上のシリンダーを有する内燃機関からの貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物を、還元触媒上でアンモニアにより還元することによって、排気ガス中に含有されている窒素酸化物を選択的に接触還元する方法において、次の工程:a)1以下の規格化空気/燃料比を有する富ガス流を製造する工程、b)富ガス流中に、その成分を相互に反応させることによりアンモニアを形成する工程、c)貧排気ガスを富ガス流と結合する工程、およびd)還元剤として形成したアンモニアを用い、還元触媒上で貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物を還元する工程を特徴とする貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物の選択的接触還元方法。
IPC (7件):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 21/04 ,  B01J 23/22 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/58
FI (8件):
B01D 53/36 102 H ,  B01J 21/04 A ,  B01J 23/22 A ,  B01J 23/42 A ,  B01J 23/44 A ,  B01J 23/58 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 B
引用特許:
審査官引用 (6件)
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