特許
J-GLOBAL ID：200903026218032740
水素ガス分離膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-245430
公開番号（公開出願番号）：特開平5-076738
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：
【要約】【目的】 混合ガス中の水素ガスを分離するための水素ガス分離膜に関する。【構成】 レーザ法又はエッチングにより孔あけ加工した金属多孔質支持体の表面に、Pdを含有する薄膜を重ね合せてなる水素ガス分離膜。金属多孔質支持体とPd薄膜との間に相互拡散を防止するバリア層を介在させることを好ましい態様とする。
請求項（抜粋）：
レーザ法又はエッチングにより孔あけ加工した金属多孔質支持体の表面に、Pdを含有する薄膜を重ね合わせてなることを特徴とする水素ガス分離膜。
IPC (3件)：
B01D 71/02 500
, B23K 26/00 330
, C01B 3/56
