特許
J-GLOBAL ID：200903026218231165

絵付けシートの製造方法および立体加工された絵付けシートの製造方法、立体形状絵付け成形品

発明者：
森 富士男

森 富士男 について


出願人/特許権者：
日本写真印刷株式会社

日本写真印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028994
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219699
出願日： 2000年02月07日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：
【要約】【課題】 絞りの深い立体形状加工に適した基体シートに塗膜層を形成する際に、印刷や塗装後の乾燥熱によって精密絵柄パターン部の位置ズレ、歪み、寸法変化が生じない絵付けシートの製造方法および立体加工された絵付けシートの製造方法、立体形状絵付け成形品を提供する。【解決手段】 熱変質温度が35〜180°Cの範囲にある基体シートのみをシート材料として用い、その上面にパターン寸法変化許容率30%以内または位置精度許容公差±0.4mm以内の精密絵柄層を少なくとも含む第1塗膜層が形成された絵付けシートを、第1塗膜層の乾燥温度が基体シートの熱変質温度以上となる条件で製造する方法であって、熱変質温度が上記乾燥温度よりも高く離型性を有するキャリアシートの上面と上記基体シートの下面とを貼り合わせ、基体シートの上面に上記第1塗膜層を形成した後、キャリアシートを剥がす。
請求項（抜粋）：
熱変質温度(熱変質温度とは、JIS K7127-1989の測定方法に基づいて基体シートの引張試験を各環境温度下で実施したときのヤング率が25°Cの環境温度下でのヤング率の80%以下になる境界の温度-以下同じ)が35〜180°Cの範囲にある基体シートのみをシート材料として用い、その上面にパターン寸法変化許容率30%以内または位置精度許容公差±0.4mm以内の精密絵柄層を少なくとも含む第1塗膜層が形成された絵付けシートを、第1塗膜層の乾燥温度が基体シートの熱変質温度以上となる条件で製造する方法であって、熱変質温度が上記乾燥温度よりも高く離型性を有するキャリアシートの上面と上記基体シートの下面とを貼り合わせ、基体シートの上面に上記第1塗膜層を形成した後、キャリアシートを剥がすことを特徴とする絵付けシートの製造方法。
IPC (4件)：
B44C 3/02 ,  B32B 31/00 ,  B32B 33/00 ,  B41M 3/12
FI (4件)：
B44C 3/02 Z ,  B32B 31/00 ,  B32B 33/00 ,  B41M 3/12
Fターム (40件)：
2H113AA01 ,  2H113AA05 ,  2H113AA06 ,  2H113BA22 ,  2H113BB08 ,  2H113BB21 ,  2H113DA52 ,  2H113DA57 ,  2H113DA58 ,  2H113EA02 ,  2H113EA22 ,  2H113EA23 ,  2H113FA04 ,  2H113FA10 ,  2H113FA36 ,  4F100AA20 ,  4F100AK12 ,  4F100AK21 ,  4F100AK21G ,  4F100AK25 ,  4F100AK51G ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CA13 ,  4F100CB00 ,  4F100CC00B ,  4F100EC182 ,  4F100EH012 ,  4F100EH902 ,  4F100EJ91 ,  4F100EJ912 ,  4F100GB33 ,  4F100GB41 ,  4F100HB31 ,  4F100HB31B ,  4F100JK07A ,  4F100JL04 ,  4F100JL04B ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (3件)

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