スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369872
公開番号（公開出願番号）：特開2001-354669
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】【課題】遠紫外線、特にArFエキシマレーザ光を用いたリソグラフィ用のフォトレジスト組成物において露光光に対し透明性が高く、熱安定性の良い光酸発生剤を提供する。【解決手段】下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物を光酸発生剤として用いる。【化1】(式中、R1はアルキレン基またはオキソ基を有するアルキレン基、またR2はオキソ基を有する直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式アルキル基、または直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式アルキル基を表す。ただし、R1、R2の少なくともどちらか一方にオキソ基を有する。また、Y-は対イオンを表す。)

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)【化1】(式中、R1はブチレン基、ペンチレン基、2-オキソブチレン基、または2-オキソペンチレン基を表し、R2は炭素数3から12の直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式の2-オキソアルキル基、または炭素数3から12の直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表し、R1、R2の少なくともどちらか一方は、オキソ基を有し、Y-は対イオンを表す)で表されることを特徴とするスルホニウム塩化合物。

IPC (7件)：

C07D335/02 , C07D333/46 , C08K 5/45 , C08L101/00 , C09K 3/00 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (7件)：

C07D335/02 , C07D333/46 , C08K 5/45 , C08L101/00 , C09K 3/00 K , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 4C023JA01 , 4J002BG071 , 4J002BH021 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002FD206 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開昭56-152833

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