特許

J-GLOBAL ID：200903026237144699

オゾン水処理方法及び装置

発明者： 澤本 勲
出願人/特許権者： ペルメレック電極株式会社
代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-215218
公開番号（公開出願番号）：特開平7-047377
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 従来のオゾンを使用する純水装置では純水装置がオゾンに対する耐性を有しないため処理済のオゾン水を循環使用できず、又循環使用を試みる場合でも完全にオゾン除去を達成できないため循環オゾン水により純水装置の性能が劣化するという問題点があった。本発明はオゾン水処理システムにおける使用済オゾン水を放流又は循環する前に該オゾン水中の残留オゾンや酸素をほぼ完全に除去できる方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 オゾン含有純水を使用して処理を行うユースポイント8の下流側のリターンライン9に隔膜11で内部をオゾン水流通領域12と減圧領域13に区画した脱オゾン装置10を設置し、該装置内のオゾン水流通領域に純水を供給し隔膜を通して減圧することにより残留オゾン及び酸素を減圧領域側に吸引して除去する。この使用済純水をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがなく、又循環再使用しても純水装置の性能を劣化させることがない。

請求項（抜粋）：

純水にオゾン含有ガスを注入してオゾン水を調製し、該オゾン水をユースポイントに送水して被処理体の処理に使用し使用後の前記オゾン水を循環して再使用しあるいは放流するようにしたオゾン水処理方法において、ユースポイントより下流側に隔膜により内部をオゾン水流通領域と減圧領域に区画した脱オゾン装置を設置し、該脱オゾン装置のオゾン水流通領域に前記使用後のオゾン水を供給し該オゾン水を前記隔膜を通して減圧領域と接触させることにより残留オゾン及び残留酸素を除去することを特徴とするオゾン水処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-144195
  
• 特開平3-188988
  
• 特開昭63-264127