特許
J-GLOBAL ID：200903026241602006
画像投射装置、および画像投射装置の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-052578
公開番号（公開出願番号）：特開2005-242036
出願日： 2004年02月27日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】画像投射装置の描画光について、複数の光源による光スポットの投影面上の位置を補正可能にすることである。【解決手段】画像投射装置1は、光を直接変調する手段を有する複数の光源2と、複数の光源2からの光を一本のビームにする光学系3と、繰り返し走査を行うことによりビームを走査する光偏向器5と、光偏向器5で偏向された光の一部を検出し、かつ、複数の画素を有するイメージセンサ11と、イメージセンサ11における光スポットの位置を算出する算出手段13と、複数の光源2からのそれぞれの光のイメージセンサ11における光スポットの位置を、光源2の発光タイミングを調整することで補正する補正手段14を具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光を直接変調する手段を有する複数の光源と、複数の前記光源からの光を一本のビームにする光学系と、繰り返し走査を行うことにより該ビームを走査する少なくとも1つ以上の光偏向器と、該光偏向器で偏向された光の一部を検出し、かつ、複数の画素を有する少なくとも1つ以上のイメージセンサと、該イメージセンサにおける光スポットの位置を算出する算出手段と、複数の該光源からのそれぞれの光の該イメージセンサにおける該光スポットの位置を、光源の発光タイミングを調整することで補正する補正手段を具備したことを特徴とする画像投射装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
G02B26/10 A
, G02B26/10 B
, G02B26/10 C
2H045AB01
, 2H045BA13
, 2H045BA24
, 2H045BA32
, 2H045CA88
, 2H045CA98
, 2H045CB22
, 2H045DA02
