特許
J-GLOBAL ID：200903026250623113
面位置設定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175197
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045812
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：
【要約】【目的】 サーボ系に高度なチューニングを要することなく、比較的低いゲインで高い追従性をもつ走査型露光装置用の面位置設定装置を提供する。【構成】 減算部69でフォーカス位置の目標値zr(t)から焦点位置検出系で検出されたフォーカス位置z(t)を差し引いて得た偏差Δz(t)を、位置ループコントローラ56に供給し、位置ループコントローラ56で所定のゲインを乗じて得られる速度vz(t)、ウエハの表面に傾斜角に応じた予測傾斜速度vz'(t)、及びウエハの表面の露光領域と先読み領域との段差に応じた予測段差速度vz"(t)を加算部57に供給する。加算部57で積算して得られた速度Vz(t)に基づいて速度ループコントローラ63を介してアクチュエータ68を駆動する。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の感光性の基板上の露光領域内に投影し、前記マスクを所定の方向に走査するのと同期して、前記基板ステージを介して前記基板を所定の方向に走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次露光する走査型露光装置に設けられ、前記基板の表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を所定の位置に設定する装置において、前記基板ステージ上で、供給される駆動信号に応じた前記投影光学系の光軸方向への駆動速度で前記基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を制御する高さ調整手段と;前記基板上の前記投影光学系による露光領域内の計測点で前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する焦点位置検出手段と;前記露光領域内の計測点を含む所定の計測領域の前記基板ステージの走り面に対する傾斜角を検出する傾斜角検出手段と;前記基板の前記投影光学系の光軸方向の目標位置と前記焦点位置検出手段により検出される位置との差分に応じた目標速度を示す駆動信号と、前記傾斜角検出信号により検出される傾斜角と前記基板ステージの走査速度との積に応じた予測傾斜速度を示す駆動信号を加算して得られる駆動信号を前記高さ調整手段に供給する速度信号供給手段と;を備えたことを特徴とする面位置設定装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 511
, H01L 21/30 516 B
, H01L 21/30 526 A
