特許

J-GLOBAL ID：200903026261223206

薄膜磁気デイスクの製造方法

発明者： 大竹 光義 ,  渡辺 正博 ,  猪股 洋一 ,  森口 善弘
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239239
公開番号（公開出願番号）：特開平5-081670
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【構成】Ni-Pめっき膜2と下地膜3の間のテクスチャ加工に、加水分解を起しやすく、砥粒の分散剤として使用可能な界面活性剤を加工液に添加し加工する。加工中に分解生成した有機酸は表面に吸着し、洗浄や成膜前の汚染から保護され下地膜3、磁性膜4、保護膜5を形成する。【効果】新しい表面を現出するまで洗浄する必要がないため、洗浄や乾燥が簡素化され、成膜前の保護をする効果もある

請求項（抜粋）：

磁性媒体を支えるNi-Pめっき基板の上に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次成膜し、前記基板と前記下地膜の間にテクスチャ加工処理を行う薄膜磁気ディスクの製造方法において、テクスチャ加工処理を行い、表面に薄い有機皮膜を付け、洗浄後の基板表面状態を安定にし、自然酸化膜などの汚染を防止することを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。