特許

J-GLOBAL ID：200903026262505868

化学増幅型レジスト用光酸発生剤及びそれを含有するレジスト材料並びにパターン形成方法

発明者： 大澤 洋一 ,  小林 克浩 ,  金子 達志
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-132523
公開番号（公開出願番号）：特開2004-334060
出願日： 2003年05月12日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【解決手段】式(1)で示される化学増幅型レジスト用光酸発生剤。【化1】(R1、R2はアルキル基、又はR1とR2でこれらが結合する硫黄原子と共に炭素数4〜6の環状構造を形成してもよい。Rは水素原子又はアルキル基。R’は水素原子、アルキル基、アルコキシル基又はニトロ基。nは1〜6。Y-はアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビスアルキルスルホニルイミド又はトリスアルキルスルホニルメチド。)【効果】本発明の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性かつ熱安定性、保存安定性に優れ、ラインエッジラフネスも小さいという特徴を有する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される化学増幅型レジスト用光酸発生剤。

IPC (2件)：

G03F7/004 ,  C07C381/12

FI (2件)：

G03F7/004 503A ,  C07C381/12

Fターム (18件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006TN30