特許

J-GLOBAL ID：200903026264028625

真空紫外レーザーを用いたフッ素系高分子成型品の表面改質方法

発明者： 新納 弘之 ,  矢部 明 ,  佐藤 正健 ,  佐藤 愛子
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338754
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146066
出願日： 2000年11月07日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、フッ素系高分子成形品表面を位置選択的に親水化させた部位を作製する方法を提供することを目的とする。【課題手段】 フッ素系高分子成形品に、電気抵抗率20MΩ・cm以下の水または水蒸気の存在下に波長157nmの真空紫外フッ素レーザーを照射し、該高分子成形品の表面を親水化させることを特徴とするフッ素系高分子成形品表面の表面改質方法。

請求項（抜粋）：

フッ素系高分子成形品に、電気抵抗率20MΩ・cm以下の水または水蒸気の存在下に波長157nmの真空紫外フッ素レーザーを照射し、該高分子成形品の表面を親水化させることを特徴とするフッ素系高分子成形品表面の表面改質方法。

IPC (3件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 CEW ,  C08L 27:12

FI (3件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 CEW Z ,  C08L 27:12

Fターム (7件)：

4F073AA01 ,  4F073BA15 ,  4F073BA16 ,  4F073CA46 ,  4F073CA61 ,  4F073CA69 ,  4F073CA71

引用特許：

審査官引用 (1件)

• フッ素樹脂の改質方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-313907   出願人：オリンパス光学工業株式会社