特許
J-GLOBAL ID：200903026273025710
酸素移動膜を利用する合成ガス製造
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
倉内 基弘
, 風間 弘志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-503547
公開番号（公開出願番号）：特表2005-503980
出願日： 2002年04月09日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
未精製合成ガス生成物流(46)、又は該未精製合成ガス生成物流(46)の更なる処理による合成ガス生成物流(64)を製造する方法に係る。未精製合成ガス生成物流(46)及び合成ガス生成物流(64)のいずれも、一酸化炭素及び水素を含む。未精製合成ガス生成物流は、その上、二酸化炭素及び水分を含む。本方法によれば、供給流中のメタンは、少なくとも二つの段階(41、42;41、42’)において水素及び一酸化炭素へと転換され、これにより未精製合成ガス流(46)を形成する。最初の段階は、酸素移動膜(14)を有し、該膜は、一酸化炭素又は蒸気メタン改質を促進する改質触媒を有する。上記転換が二段階に分担されるため、酸素移動膜(14)は、十分低い温度で操作され得、これにより、クリープ効果によるセラミック膜の劣化を回避する。後続段階(42、42’)は、メタンの転化を完了させるため、より好ましい平衡状態の高温で操作され得る。
請求項（抜粋）：
水素及び一酸化炭素を含む合成ガス生成物流(64)を製造する方法であって、
メタンを含む供給流(22)中のメタンを、少なくとも二つの段階(41、42;41、42’)それぞれにおいて前記水素及び一酸化炭素へと転換し、これにより未精製合成ガス流(46)を形成する工程を含み、
前記メタンは、前記少なくとも二つの段階(41、42;41、42’)の内の後続段階(42;42’)よりも低い温度で操作される該少なくとも二つの段階(41、42;41、42’)の内の一段階(41)における二酸化炭素又は蒸気メタン改質によって少なくとも一部が転換され、
前記少なくとも二つの段階(41、42;41、42’)の内の一段階(41)は、酸素含有ガス(10)から酸素を分離して当該膜のカソード側からアノード側へと酸素を透過させる少なくとも一つの酸素移動膜(14)と、メタンの改質を促進するために、前記少なくとも一つの酸素移動膜のアノード側に配置された改質触媒(40)とを有し、該メタンの改質は、前記少なくとも一つの酸素移動膜を透過する酸素によって支持される燃料種の酸化によって発生した熱を通じて熱的に平衡にされ、
当該方法は、前記未精製合成ガス流(46)から水(58)及び二酸化炭素(62)の少なくとも一部を除去して、前記合成ガス生成物流(64)を形成する工程を含むことを特徴とする合成ガス製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (23件)：
4D006GA41
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006KE16R
, 4D006MB04
, 4D006MB15
, 4D006MC03
, 4D006PA02
, 4D006PB17
, 4D006PB62
, 4D006PC69
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EA07
, 4G140EB01
, 4G140EB12
, 4G140EB18
, 4G140EB23
, 4G140EB35
, 4G140EB42
, 4G140EC02
, 4G140EC03
, 4G140EC04
