特許
J-GLOBAL ID：200903026280512006
電気めっき法で形成した皮膜と物理的気相成長法で形成した皮膜からなる表面硬化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-282336
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192853
出願日： 1991年08月01日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 産業用機械装置に用いられる軟質部材の表面硬化方法に係るものであり、軟らかい母材と硬いTiNからなる皮膜との中間に工業用クロムめっきのめっき皮膜を介在させることにより、TiN皮膜が本来有している高硬度の特性を保持しようとするものである。【構成】 ブリネル硬さ(HB)が30〜80の金属からなる母材表面に電気めっき法により5μm〜50μmの膜厚を有する工業用クロムめっきのめっき皮膜を形成し、該めっき皮膜の上面にPVD法によりTiNからなる0.5μm〜5μmの膜厚を有するTiN皮膜を形成することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
ブリネル硬さ(HB)が30〜80の金属からなる母材表面に電気めっき法により5μm〜50μmの膜厚を有する工業用クロムめっきのめっき皮膜を形成し、該めっき皮膜の上面に物理的気相成長法(以下PVD法と称する。)により窒化チタン(以下TiNと称する。)からなる0.5μm〜5μmの膜厚を有するTiN皮膜を形成することを特徴とする電気めっき法で形成した皮膜と物理的気相成長法で形成した皮膜からなる表面硬化方法。
IPC (3件)：
C23C 28/00
, C23C 14/06
, C25D 5/10
