特許

J-GLOBAL ID：200903026285448110

フィルターの製造方法及び製造装置

発明者： 大津 茂実 ,  清水 敬司 ,  圷 英一
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-022485
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221315
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】フィルターの製造方法及び製造装置【課題】 フォトリソグラフィー工程を必要とせず、高解像度で制御性が高く、各画素のエッジがシャープなフィルターの製造方法及びそれに用いる製造装置を提供する。【解決手段】 透明な基体上に透明導電膜と透明半導体薄膜を積層してなる透明基板を着色材及び電着材を含む電解液に接触させて通電し、電気化学的に着色材を含む電着材を析出させてフィルター層を形成する電着法を用いたフィルターの製造方法において、光照射によって像様に起電力を発生させ選択的に電着材を析出させて電着膜を形成するフィルター層の形成工程と、フィルター層を形成した後に乾燥・硬化させ、電着膜を溶解しうる水溶液を接触させてフィルター層周辺に形成された薄い絶縁性の電着膜を除去する不要電着膜除去工程とを順次実施しすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明な基体上に透明導電膜を形成し、その上部に透明半導体薄膜を積層してなる透明基板を着色材及び電着材を含む電解液に接触させて通電し、電気化学的に該透明基板に着色材を含む電着材を析出させてフィルター層を形成するフィルターの製造方法において、光照射によって像様に起電力を発生させ選択的に電着材を析出させて電着膜を形成するフィルター層の形成工程と、該フィルター層を形成した後に乾燥・硬化させ、電着膜を溶解しうる水溶液を接触させてフィルター層周辺に形成された薄い絶縁性の電着膜を除去する不要電着膜除去工程とを順次実施し、その後、色相の異なる別のフィルター層又はブラックマトリクス層の形成工程を実施することを特徴とするフィルターの製造方法。

Fターム (5件)：

2H048BA62 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46