特許
J-GLOBAL ID:200903026313512260

ヒドロキシケトン類の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田治米 登 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-107873
公開番号(公開出願番号):特開2000-297057
出願日: 1999年04月15日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】 ポリマー、溶剤、香料、医薬、および、農薬等の合成中間体として有用であるヒドロキシケトン類を安価かつ工業的に有利に製造できる方法を提供する。【解決手段】 式(IV)【化1】(式中、R3及びR4はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、nは1または2を表す。)で示される化合物に、式(V)【化2】(式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、R2は水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。)で示されるケトン類を塩基の存在下に作用させることにより式(I)【化3】(式中、R1、R2、R3、R4及びnは前記定義と同じである。)で示される化合物を形成し、この化合物を酸又は塩基の存在下で水素添加して式(II)【化4】(式中、R1、R2、R3、R4及びnは前記定義と同じである。)で示されるヒドロキシケトン類を製造する。
請求項(抜粋):
式(I)【化1】(式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、R2、R3及びR4はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、nは1または2を表す。)で示される化合物を酸又は塩基の存在下で水素添加することからなる、式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4及びnは前記定義と同じである。)で示されるヒドロキシケトン類の製造方法。
IPC (5件):
C07C 45/64 ,  C07C 49/17 ,  C07D307/12 ,  C07D309/06 ,  C07B 61/00 300
FI (5件):
C07C 45/64 ,  C07C 49/17 E ,  C07D307/12 ,  C07D309/06 ,  C07B 61/00 300
Fターム (18件):
4C037CA09 ,  4C062AA08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA29 ,  4H006BA35 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA50 ,  4H006BA51 ,  4H006BA52 ,  4H006BA66 ,  4H006BA69 ,  4H006BE20 ,  4H039CA60 ,  4H039CH50
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭54-130559
  • 特開昭54-130559
引用文献:
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る