特許
J-GLOBAL ID：200903026335584184
X線断層撮影方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-080367
公開番号（公開出願番号）：特開平8-275937
出願日： 1995年04月05日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：
【要約】【目的】 簡易な構成で高分解能の断層像が得られるX線断層撮影方法および装置を実現することである。【構成】 X線断層撮影装置において、X線発生手段1の焦点からX線検出手段2までの距離を可変にする距離可変手段14と、X線発生手段1の焦点から検出手段2までの距離に応じてX線検出手段2に入射するX線の指向性を調節する指向性調節手段13,21とを具備することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
X線源の焦点から発散するX線を被検体が配置される測定空間に照射し、前記測定空間に配置された被検体を透過して入射するX線を複数の検出素子を有するX線検出器で検出し、前記X線源と前記X線検出器を前記被検体の周りを回転させ、回転軌道上の複数の位置で得られるX線検出信号に基づいて被検体の断層像を求めるX線断層撮影方法において、前記X線源の焦点から前記X線検出器までの距離を可変にしたことを特徴とするX線断層撮影方法。
IPC (2件)：
A61B 6/03 320
, A61B 6/03 321
A61B 6/03 320 B
, A61B 6/03 321 Z
