特許

J-GLOBAL ID：200903026344481347

水素透過用Pd合金膜及びその作製方法

発明者： 関 務 ,  安田 勇 ,  伊藤 滋 ,  明石 和夫
出願人/特許権者： 東京瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 加茂 裕邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051715
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247605
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】真空蒸着装置により多孔質支持体の表面に所望、所定の組成比に制御した水素透過用Pd合金膜を得る。【解決手段】多孔質支持体の表面に形成されたPdとPdと合金化する金属とからなる水素透過用Pd合金膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面にPdを蒸発させる蒸発源とPdと合金化する金属を蒸発させる蒸発源との2つ以上の蒸発源を有する真空蒸着装置を用いて作製されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過用Pd合金膜及びその作製方法。

請求項（抜粋）：

多孔質支持体の表面に形成されたPdとPdと合金化する金属とからなる水素透過用Pd合金膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面にPdを蒸発させる蒸発源とPdと合金化する金属を蒸発させる蒸発源との2つの蒸発源を有する真空蒸着装置を用いて作製されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過用Pd合金膜。

IPC (3件)：

C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500 ,  C23C 14/14

FI (3件)：

C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500 ,  C23C 14/14 D

Fターム (25件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03 ,  4D006NA31 ,  4D006PA01 ,  4D006PB19 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G040FA04 ,  4G040FB04 ,  4G040FC02 ,  4G040FD07 ,  4G040FE01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA22 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB04 ,  4K029DB21