特許
J-GLOBAL ID：200903026345979098
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-314328
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151277
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】 スループット等の低下なく長期的に安定した高精度の露光を行えるようにする。【構成】 原版を照明してそのパターンの像を、所定の露光基準面に表面を一致させた感光基板上に露光転写する光学手段と、露光基準面に対する感光基板表面の距離と傾きを検出する基板表面位置検出手段と、基板保持手段と、基板保持手段を移動させるX-Yステージと、基板保持手段を傾斜させるレベリングステージと、基板保持手段をθ方向に回転させる微θステージと、レーザ干渉計により基板保持手段のX,Y,θ位置を測定する水平位置測定手段と、基板表面位置検出手段および水平位置測定手段の出力に基き各ステージを位置決めし、感光基板の表面と露光基準面とを一致させてから、原版のパターン像を露光転写する駆動制御手段とを備えた露光装置において、前記各ステージを駆動させた際に水平位置測定手段の測定値に誤差を生じさせる誤差要因を検出する誤差要因検出手段を具備し、制御手段は、その検出結果を考慮してX-Yステージおよび微θステージの駆動制御を行うものである。
請求項（抜粋）：
パターンが形成された原版を照明してそのパターンの像を、所定の露光基準面に表面を一致させた感光基板上に露光転写する光学手段と、露光基準面に対する感光基板表面の距離と傾きを検出する基板表面位置検出手段と、感光基板を保持する基板保持手段と、基板保持手段を露光基準面にほぼ平行にXおよびY方向に移動させるX-Yステージと、基板保持手段を露光基準面に対して任意方向に傾斜させるレベリングステージと、基板保持手段を露光基準面に略垂直な前記光学手段の光軸の回りのθ方向に回転させる微θステージと、基板保持手段に固定された反射平面およびその反射平面位置を計測するレーザ干渉計により基板保持手段のX,Y,θ位置を測定する水平位置測定手段と、基板表面位置検出手段および水平位置測定手段の出力に基づいて前記各ステージを駆動させて位置決めし、感光基板の表面と露光基準面とを一致させてから、原版のパターン像を前記光学手段により感光基板上に露光転写する駆動制御手段とを備えた露光装置において、前記各ステージを駆動させた際に水平位置測定手段の測定値に誤差を生じさせる誤差要因を検出する誤差要因検出手段を具備し、制御手段は、その検出結果を考慮してX-Yステージおよび微θステージの駆動制御を行うものであることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 L
