特許
J-GLOBAL ID：200903026355225458
電気化学的フツ素化及びフツ素製造のためのアノード及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-096086
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140783
出願日： 1991年04月03日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：
【要約】[構成] フッ素化合物よりなる付加的外側層を有するか又は有さない、1又はそれ以上の金属化合物の電子伝導性又は半伝導性層で被覆された金属、特にニッケルからなるアノード。[効果] このアノードを、アノードとカソードの間をフッ化水素酸を通して電流が流れる電気フッ素化又は電気化学的フッ素製造プロセスにおけるアノードとして用いたとき、腐蝕に対して高い抵抗性を示す。
請求項（抜粋）：
金属のフッ素化合物の更なる外側層を有するか又は有さない、該金属の1又はそれ以上の化合物の電子伝導性又は半伝導性の層で被覆された該金属、及び該金属への電気的接続体を有することを特徴とする電気フッ素化又は電気化学的フッ素製造のためのアノード。
IPC (2件)：
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