排水処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-304176
公開番号（公開出願番号）：特開平7-155773
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：

【要約】【目的】排水処理装置に関し、より詳しくは、半導体装置の製造プロセスなどで排出される排水中の窒素濃度を管理容易に低減すること。【構成】アンモニア性窒素を含む排水に酸化剤を供給し且つ紫外線を照射して該アンモニア性窒素を硝酸性窒素に変化させる酸化系機器と、前記硝酸性窒素を含む排水に還元剤を供給し且つ紫外線を照射して該排水中の窒素分をガスとして取り出す還元系機器とを含む。

請求項（抜粋）：