特許
J-GLOBAL ID：200903026379295015
集束イオンビーム発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-349275
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192858
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 スパッタレートの異なる物質が混在しても集束イオンビームの走査速度を変えて均一なエッチングを行う集束イオンビーム発生装置を得る。【構成】 イオン源1から出射されるイオンビームを光学系を介して試料7表面に照射することによって発生するスパッタリング現象を利用して試料7表面にイオンビームを走査することによりエッチングを行う集束イオンビーム発生装置において、イオンビームの走査時に試料7表面から放出されるスパッタ粒子を検出するスパッタ粒子検出器9と、このスパッタ粒子検出器9の検出信号に基づいてスパッタレートを判別するスパッタレート判別部10と、このスパッタレート判別部10の出力信号に応じてイオンビームの走査速度を制御する速度速度制御部11とを備える。
請求項（抜粋）：
イオン源から出射されるイオンビームを光学系を介して試料表面に照射することによって発生するスパッタリング現象を利用して試料表面にイオンビームを走査することによりエッチングを行う集束イオンビーム発生装置において、イオンビームの走査時に試料表面から放出されるスパッタ粒子を検出するスパッタ粒子検出器と、このスパッタ粒子検出器の検出信号に基づいてスパッタレートを判別するスパッタレート判別部と、このスパッタレート判別部の出力信号に応じてイオンビームの走査速度を制御する走査速度制御部とを備えたことを特徴とする集束イオンビーム発生装置。
IPC (5件)：
C23F 4/00
, H01J 37/04
, H01J 37/30
, H01L 21/265
, H01L 21/302
