特許

J-GLOBAL ID：200903026390150606

光学系の製造方法およびEUV露光装置

発明者： 村上 勝彦 ,  小松田 秀基 ,  山本 正樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-266148
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077805
出願日： 2001年09月03日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】 多層膜の表面層を除去して多層膜ミラーの面形状を補正する技術を適用して、実際に光学系を製造する方法を提供する。【解決手段】 ミラー基板を所定の形状精度、表面粗さに加工する(基板加工)。次に、これらのミラー基板に多層膜を成膜する(多層膜成膜)。次に、これらの多層膜ミラーを鏡筒に取り付けて、光学系を組み立てる(光学系組立)。次に、組み立てた光学系の波面収差を、使用する波長で測定する(波面測定)。測定した波面収差の値仕様値範囲内に入らない場合は、測定した波面から各多層膜ミラー面形状の補正量を計算する(補正量計算)。次に、多層膜を部分的に所定の厚さだけ除去することによりミラー形状の補正を行う。その後、再び光学系の組立、波面収差測定を行う。以下、補正量計算工程、多層膜修正加工工程、光学系組立工程、波面収差測定工程のサイクルを、波面収差が仕様値を満たすまで繰り返し実施する。

請求項（抜粋）：

光学系を構成する複数のミラー基板を所定の形状精度に加工する第一の工程と、各ミラー基板に所定の波長の光を反射する多層膜を成膜する第二の工程と、このようにして製作された各多層膜ミラーを鏡筒に固定して光学系を組み立てる第三の工程と、当該光学系の波面収差を当該光学系の使用波長で測定する第四の工程と、測定した波面収差から光学系の補正量を算出する第五の工程と、各多層膜ミラーの多層膜表面を選択的に除去して形状補正量に相当する形状の補正を行う第六の工程を含み、波面収差が所定の値以下になるまで、第五の工程、第六の工程、第三の工程および第四の工程を順次繰り返すことを特徴とする光学系の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/06

FI (7件)：

G02B 17/00 Z ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/06 D ,  G21K 1/06 M ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 517

Fターム (16件)：

2H087KA21 ,  2H087NA05 ,  2H087NA09 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CB03 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046DA11 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01