特許

J-GLOBAL ID：200903026391082582

レジスト現像方法およびレジスト現像装置

発明者： 山下 敏広
出願人/特許権者： 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-165955
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012529
出願日： 1996年06月26日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】 現像液の濃度管理が行ないやすく、かつレジスト膜厚の寸法精度を向上させることができるレジスト現像方法を提供する。【解決手段】 基板4を現像液中に浸漬させてレジストを現像するレジスト現像方法であって、前記基板4の上表面4aに現像液をシャワーノズル12により散布したのち、現像液に浸漬させる。

請求項（抜粋）：

被現像物を現像液中に浸漬させてレジストを現像するレジスト現像方法であって、前記被現像物の上表面に現像液を散布したのち、現像液に浸漬させることを特徴とするレジスト現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (3件)：

H01L 21/30 569 B ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F